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      等離子表面處理儀

      更新時間:2023-11-14

      瀏覽次數:1685

      簡要描述:

      供應SAT 210等離子表面處理儀,等離子表面處理儀
      1.實時檢測和顯示真空度,真空度準確使得機器在智能控制下有了可靠的依據。
      2.設備自動模式下:真空啟動值可以自由設定(范圍:1—80帕)這樣就為外加氣體提供了可靠的輝光啟動環境,使得輝光保持更高純度,有力的保證了實驗效果的準確性和可靠性。
      3.艙體、管路、閥體全部為不銹鋼材料,耐用防低腐蝕。
      4.采用電容式 Plasma激發,實驗效果穩定,均勻可靠,電極板置于樣品倉內頂部懸掛.

      品牌賽奧特(SAT)品牌賽奧特(SAT)
      經營方式廠家直銷

                                                   SAT 210  等離子表面處理儀

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      應用領域

      適用于材料科學、光學、光電子學、生命科學、電子學、生物醫學、半導體、高分子科學、微觀流體學等領域.

      主要實驗應用

        1.表面清潔 2.表面活化 3.鍵合 4.去膠 5.金屬還原 6.簡單刻蝕 7.去除表面有機物  8.疏水實驗  9.沉積實驗  10.形成新的基團  11.鍍膜前處理等

      技術特點

      1.實時檢測和顯示真空度,使得設備在智能控制下有了可靠的依據.

      2.真空值可自由設定,(范圍:10—60)為外加氣體提供了可靠的輝光啟動環境,為輝光純度提供了有利的保障,保證了實驗效果的準確性和可靠性.

      3.真空腔體采用鉸鏈側開門結構,帶有觀察窗,材料為6061材質.

      4.腔體、管路、閥體全部為不銹鋼材料.

      5.電容式(CCP)激發,實驗效果穩定,均勻可靠,電極板置于樣品倉內頂部懸掛.

      6.采用觸摸屏顯示控制,手動,自動兩種模式任意切換.

      7.程序化設計,預先編輯好程序,儀器自動完成實驗.

      8.利用氣體電離后產生的等離子體的反應活性與材料表面發生的物理或者化學反應,使材料表面成分、組成和結構發生變化,并能得到某些特定的基團。

      9.無需耗材,使用成本低,無需特殊進行維護,在日常使用中保持儀器清潔即可。

      等離子表面處理儀技術規格

      1.樣品腔體尺寸:255(深度)X110(直徑)mm ,不銹鋼材質.

      2.放置樣品托盤尺寸:105()X230(長)mm,材質:6061鋁氧化本色

      3.射頻頻率:40KHz .

      4.射頻功率:200W,0200W可調,精度:1.

      5.輝光放電功率:10W--200W

      6.輝光放電時間設定:1秒到9959.

      7.氣路設置:3氣路(2路進氣,一路放空).

      8.工作氣體穩定時間:可調,可設定,范圍:0--180.

      9.進氣控制:兩路浮子流量計控制

      10.工作氣體:空氣\氮氣\氬氣\氮氫混合氣\氬氦混合氣等均可; 也可接入無腐蝕性、無毒的工作液體溶液,例如:六甲基二硅氧烷(HMDSO),接入工作液體需要選配接枝儀來配套使用。

      11.進氣壓力:通入空氣時常壓,接入鋼瓶時,鋼瓶進氣壓力調整到0.1-0.2Mpa

      12.供電電源:~220V50Hz

      13.外形尺寸(寬**高)mm:440ⅹ490ⅹ485

      14.整機重量(約):20Kg

      真空泵  

      標準配置為機械油泵:1)抽速:2/2)極限壓強:6*10-2   3)噪音;≤66db 4)抽氣KF16法蘭接口,排氣口KF25接口 5)電源線為陰插線

      基本配置

      主機+真空系統(雙極機械真空油泵、油霧過濾器、真空管、KF16法蘭)、外加氣體軟管、樣品托盤、說明書、電源線、合格證

      七 選配件

      (一)機械油泵 型號:VRD-8

      1.抽速:2.2/  2.極限壓強:≤5*10-2  3.噪音;≤56db   4.工作環境溫度:5—45

      (二)干泵(1  型號:GWSP150

      1.抽速:2/  2.極限壓強:≤6 3.噪音;≤57db  4.工作環境溫度:5--45℃

        干泵(2)型號: SPH10

      1.抽速:2.8/ 2.極限壓強:≤2  3.噪音;≤55db

      4.工作環境溫度:5--45℃

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      八  操作方法
       
      1、準備工作:首先需檢查設備是否正常,確認所有連接線路是否牢固。開啟氣源和電源,并進行預熱等操作。
       
      2、樣品處理:將待處理的樣品放置于等離子體區域內,對其進行清潔處理以去除表面污物和水分??梢允褂没瘜W溶液、超聲波浴等方式進行清洗。
       
      3、等離子體處理:開啟等離子體電源,通過調節電壓、頻率等參數控制等離子體的形成和強度。進行等離子體表面處理,一般處理時間在數分鐘到數小時之間。
       
      4、停止處理:處理完成后,關閉電源和氣源,切勿直接取出樣品。需先關閉等離子體電源,停止等離子體的產生,等待等離子體消散后再取出樣品。
       
      5、清洗維護:處理完畢后需要對設備進行清洗和維護,防止殘留的化學物質對設備造成損壞或影響下次使用效果。

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